Strona 19

Chemia fizyczna

Pytanie 145
151. Zaleznosc entalpii od T
(∂H/∂T) (V)=Cp
(∂H/∂T) (V) =Cp (1-αμ/KT )
(∂H/∂T) (V)= (1-αμ/K_T )
Pytanie 146
154. Jak zmieni się konwersja substratow w produkty po zwiększeniu ciśnienia dla reakcji 1mol substratu=2 mole produktow
nie przesunie się w żadną stronę
przesunie się w strone produktów
przesunie się w strone substratów
Pytanie 147
155. Po zwiekszeniu ciśnienia temperatura topnienia lodu
pozostaje stała
maleje
rośnie
Pytanie 148
156. 100°C ile to °F?
58
100
212
Pytanie 149
85. W jakich warunkach zaobserwujemy taki stan skupienia jak plazma?
zjonizowana ciecz
niecałkowicie zjonizowany gaz
Całkowicie zjonizowany gaz
Pytanie 150
86. Jaki stop ma w składzie kadm?
wooda
niewooda
Pytanie 151
88. Wzór na Clausiusa-Clapeyrona.
dlnp/dT=(∆par H)*〖RT〗^2
dlnp/dT=(∆par H)/〖RT〗^2
dlnK/dT=(∆par H)/〖RT〗^2
Pytanie 152
90. Na czym polega oczyszczanie strefowe?
Oczyszczanie strefowe to proces oczyszczania substancji (najczęściej metali, ale także np. półprzewodników) od występujących w bardzo dużych stężeniach zanieczyszczeń.
Oczyszczanie strefowe to proces oczyszczania substancji (najczęściej niemetali, ale także np. półprzewodników) od występujących w bardzo małych stężeniach zanieczyszczeń.
Oczyszczanie strefowe to proces oczyszczania substancji (najczęściej metali, ale także np. półprzewodników) od występujących w bardzo małych stężeniach zanieczyszczeń.
Przejdź na Memorizer+
W trybie testu zyskasz:
Brak reklam
Quiz powtórkowy - pozwoli Ci opanować pytania, których nie umiesz
Więcej pytań na stronie testu
Wybór pytań do ponownego rozwiązania
Trzy razy bardziej pojemną historię aktywności
Aktywuj